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网传:国产光刻机生产线调试成功

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中级站友

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发表于 前天 12:25 来自手机 | 显示全部楼层 |阅读模式
据说良品率超70%,哈工大光源做出重要贡献!

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青铜长老

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发表于 前天 12:30 来自手机 | 显示全部楼层
浸润式DUV而已,外面造谣EUV

高级战友

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发表于 前天 12:44 来自手机 | 显示全部楼层
真的假的啊?????

青铜长老

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发表于 前天 12:54 来自手机 | 显示全部楼层
好消息!

中级站友

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 楼主| 发表于 前天 13:39 来自手机 | 显示全部楼层
值得开香槟

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青铜长老

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发表于 前天 13:56 来自手机 | 显示全部楼层
太假了7nm良率吧?

青铜长老

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发表于 前天 13:56 来自手机 | 显示全部楼层
有了这玩意,武统、和统都无所谓了

初出江湖

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发表于 前天 15:07 来自手机 | 显示全部楼层
拼凑的东西罢了,哈工大dpp自己老师都不继续玩的水平

高级战友

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发表于 前天 15:09 来自手机 | 显示全部楼层
就是成功了,和哈工大有啥关系,用哈工大的网名发一些道听途说的消息,不知道是何用意?这么点时间是不可能突破极紫外线光刻机的,能把深紫外线光源光刻机整明白就很不容易了,都是学理工科的,查资料验证不是基本功吗?

高级战友

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发表于 前天 15:11 来自手机 | 显示全部楼层
在国内自嗨是不能让民族站在世界之巅的

高级战友

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发表于 前天 15:22 来自手机 | 显示全部楼层
只要持续投入,早晚会突破的,突破了也不会是一个公司一个高校的功劳,需要无数单位和工程师协力攻关。

白金长老

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发表于 前天 15:47 | 显示全部楼层
本帖最后由 congyun 于 2025-6-21 15:48 编辑
Abbvie 发表于 2025-6-21 15:09
就是成功了,和哈工大有啥关系,用哈工大的网名发一些道听途说的消息,不知道是何用意?这么点时间是不可能 ...

今年华为有一笔大额捐赠给工大,拿去给威海修宿舍了,自己理解吧

初出江湖

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发表于 前天 15:59 | 显示全部楼层
和哈工没关系
不要碰瓷

初出江湖

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发表于 前天 16:16 来自手机 | 显示全部楼层
真的还是假的?

高级战友

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发表于 前天 16:41 | 显示全部楼层
本帖最后由 Abbvie 于 2025-6-21 16:42 编辑
congyun 发表于 2025-6-21 15:47
今年华为有一笔大额捐赠给工大,拿去给威海修宿舍了,自己理解吧

就是哈工大有所贡献,也是应该做的,更何况还没有到论功行赏的时候。

EUV光刻机是已经商业化的产品,只要持续投入,国内早晚是可以解决的,以EUV光刻机的系统集成难度,绝不是一个公司或一个科研院所独立可以研发成功的,需要无数工程师协力攻关的结果,就如两弹一星一样,虽然是非常重要的,但不能说两弹一星是唯一重要的事情。

信奉林法则并不一定能让国家或民族更加强大,局部利益高于整体、屁股决定脑袋一定阻碍国人都能过上有尊严日子的理想。论坛之上高校之间无聊争论,反映出来的狭隘、屁股决定脑袋的思维方式、价值观错误,才是真正需要反思的方面,以校友的名义陷入这种无聊的争论中,给母校都是负面的影响。

白金长老

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发表于 前天 16:47 | 显示全部楼层
Abbvie 发表于 2025-6-21 16:41
就是哈工大有所贡献,也是应该做的,更何况还没有到论功行赏的时候。

EUV光刻机是已经商业化的产品,只要 ...

解密还要一些年,现在芯片制造“只做不说”,而且是红头文件要求。别动不动什么都需要公开,我们在企业一些东西连专利都不申请,法律上叫商业秘密。

青铜长老

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发表于 前天 17:26 来自手机 | 显示全部楼层
congyun 发表于 2025-6-21 16:47
解密还要一些年,现在芯片制造“只做不说”,而且是红头文件要求。别动不动什么都需要公开,我们在企业一 ...

我看到2026量产EUV

青铜长老

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发表于 前天 17:26 来自手机 | 显示全部楼层
国产EUV光刻机突破,即将试产!良率可达70%  据爆料东莞松山湖畔的华为工厂里,一台刻着“中国制造”的庞然大物正在全速运转。 它投射出的极紫外光束精准落在晶圆上,刻画出仅有头发丝万分之一细的电路。  这不是ASML的机器,而是华为联合国内产业链自主研发的EUV光刻机。 现场工程师透露,其核心光源效率已达3.42%,距离国际顶尖水平仅差“最后一公里”。  在华为东莞基地的无尘车间内,首台国产极紫外(EUV)光刻机已完成装机调试,进入芯片试生产流程。  测试数据显示,该设备每小时可处理250片晶圆,超越ASML同级别设备的195片产能。 其核心光源采用哈工大研发的激光诱导放电等离子体(LDP)技术,能量转换效率达到ASML方案的2.25倍,设备体积却缩小了30%。  一位参与测试的工程师描述:“当13.5纳米波长的紫色光束首次穿透晶圆时,整个车间爆发出掌声,这意味着我们真正握住了芯片制造的‘光剑’。 ”  与ASML的二氧化碳激光轰击技术不同,中国团队选择了“换道超车”策略。 哈工大开发的放电等离子体极紫外光源(DPP)采用固体脉冲激光器,直接将电能转化为等离子体辐射,省去了复杂的激光放大环节。  这使得设备功耗降低40%,成本仅为进口设备的1/3。 更关键的是,该技术完全绕开ASML的LPP(激光等离子体)专利壁垒。  预计2026年就能量产……这速度让人咂舌。对,比你想象得还快一大截。因为这意味着,国产芯片的制造成本至少能减低将近一半。  未来更令人期待的是,随着国产EDA工具、先进封装技术的突破,2028年前后,咱们能自主掌握高端芯片的全部制造环节。到2030年,甚至可能在某些领域实现对国际巨头的局部超越。这意味着什么,不用我多说,全球半导体产业的版图将被重新划定。那些曾经以技术封锁、资本优势立足的公司,还能扼制住我们吗?光刻机的突破,是国家科技实力的一次真正硬核展示。  这一切,还仅仅是开始。国产EUV的成功,必将带动相关产业链的全面升级——从材料到设备,从设计到制造,无一不是推动中国数字经济、人工智能、甚至下一波科技革命的动力。机遇来了,真是千载难逢。未来的中国,靠着这些“看得见摸得着”的硬核技术,绝不会再被别人牵着鼻子走。已走在路上,不会再停步。  人们常说“只有想不到,没有做不到”。这次,我们看到了国家的决心和研发团队的努力。别再盯着那些“还早”“还差一点”的借口了。相信我,国产芯片的崛起只是时间问题。三年,最多三年,谁还能阻挡我们在芯片领域的独步天下?这些技术差距的缩小,只是一串数字的变化,更是中国科技追赶、甚至超越的信号。  继续支持国产,一起见证奇迹的发生。未来不远,等待我们的是更丰富、更强大的科技自主权。还记得那次看新闻的激动心情吗?那不仅是技术的胜利,更是民族意志的胜利。这条路,才刚刚开始走。这场战役,我们绝不会退缩。拼尽全力,迎接中国芯片的春天!最令人振奋的,是中国在这条路上的努力得到认可。美国半导体协会的最新报告发出信号:中国与世界顶尖水平的差距已缩短到12个月。“差距缩小,追赶步伐加快”,这话说得真不夸张。产业链上下游的协同创新,效果不可小觑。2026年之前,国产3nm芯片的技术体系基本能闭合,只要一切顺利,关键材料的国产化也会同步推进。  而且,2027年,试产线正式开启。良率能从30%~40%提升到60%~70%。这看似是个指标,其实背后是国产化的全面拉开序幕。2028年,量产规模扩大,满足国内超过70%的需求。成本比国际巨头低20%~25%。你说,这不是大新闻吗?国产的技术优势逐渐清晰,20多年前别人还能靠进口技术吃饭,今天中国自己走出了一条自主创新路。   未来更令人期待的是,随着国产EDA工具、先进封装技术的突破,2028年前后,咱们能自主掌握高端芯片的全部制造环节。到2030年,甚至可能在某些领域实现对国际巨头的局部超越。这意味着什么,不用我多说,全球半导体产业的版图将被重新划定。那些曾经以技术封锁、资本优势立足的公司,还能扼制住我们吗?光刻机的突破,是国家科技实力的一次真正硬核展示。  这一切,还仅仅是开始。国产EUV的成功,必将带动相关产业链的全面升级——从材料到设备,从设计到制造,无一不是推动中国数字经济、人工智能、甚至下一波科技革命的动力。机遇来了,真是千载难逢。未来的中国,靠着这些“看得见摸得着”的硬核技术,绝不会再被别人牵着鼻子走。已走在路上,不会再停步。  人们常说“只有想不到,没有做不到”。这次,我们看到了国家的决心和研发团队的努力。别再盯着那些“还早”“还差一点”的借口了。相信我,国产芯片的崛起只是时间问题。三年,最多三年,谁还能阻挡我们在芯片领域的独步天下?这些技术差距的缩小,只是一串数字的变化,更是中国科技追赶、甚至超越的信号。p

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发表于 前天 18:40 | 显示全部楼层
振奋人心!期待华为下半年的靓丽表现!
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