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哈工大LDP-EUV光源已走通技术路线,同时独创的磁悬浮驱动技术更是打破了西方长期垄断。

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发表于 5 天前 来自手机 | 显示全部楼层 |阅读模式
本帖最后由 小梅沙 于 2025-8-14 19:15 编辑

中国光刻机技术迎来里程碑式突破!哈尔滨工业大学联合国内顶尖科研机构,成功攻克极紫外光源系统核心难题,这项被誉为"半导体工业皇冠明珠"的关键技术突破,让中国在光刻机自主化道路上迈出坚实一步。作为国内半导体装备研究的排头兵,哈工大自主研发的双工件台系统精度已达纳米级,其独创的磁悬浮驱动技术更是打破了西方长期垄断。与此同时,中芯国际凭借与国内产业链的深度协同,率先实现28纳米工艺量产良率突破90%大关,7纳米制程研发进度超预期,这家中国芯片制造龙头正以"中国速度"改写全球半导体产业格局。从实验室突破到产线落地,中国半导体产业正在上演"三级跳"式的跨越发展:上游设备企业突破"卡脖子"技术,中游晶圆厂实现工艺迭代,下游设计公司获得先进制程支撑。这种全产业链协同创新的"中国模式",正在重塑全球半导体产业的价值链分布。业内专家评价,此次突破不仅意味着中国在高端光刻设备领域撕开了一道口子,更预示着全球半导体产业格局将迎来深刻变革。

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 楼主| 发表于 5 天前 来自手机 | 显示全部楼层
本帖最后由 小梅沙 于 2025-8-14 18:50 编辑

哈工大是国产光刻机排头兵,从EUV光源到双工件台。

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 楼主| 发表于 5 天前 来自手机 | 显示全部楼层
有消息说,中国正讨论制定一项新的制造业发展计划,接替今年收官的“中国制造2025”计划。新计划的要点包括优先发展包括EUV在内的晶片制造设备等关键技术,未来10年中国的核心战略是科技引领的制造业升级;高层仍在探讨是否要在“十五五”规划中设定消费占GDP比重的目标。

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 楼主| 发表于 5 天前 来自手机 | 显示全部楼层
中国光刻机突'破速度超出预期,值得中华民族所有人为之自豪。这将是标柄史册的伟大的技术进步!是中华民族傲然屹立于世界民族之林的坚固基石!

新手上路

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发表于 3 天前 | 显示全部楼层
厉害。不知道什么时候能投产。
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