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: p+ x) D( `) l南开大学最近新建了集成电路团队，目前有7位博导。' `1 y, w1 {2 ]/ C+ s
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1）胡伟波，2005年，在哈尔滨工业大学本科毕业 2008年，在北京大学硕士毕业； 2014年，在美国德州理工大学博士毕业； 2013到2017年，在美国高通公司圣地亚哥总部工作； 2017年，到南开大学工作。% {4 C1 B5 R0 S1 q% `. c; }
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2）陈普锋，2025.6至今，南开大学，电子信息与光学工程学院，研究员；, x5 @8 g# R2 K: c7 S
2013.7~2025.5，中科海高微波技术有限公司，联合创始人/副总经理，领导公司产品和技术研发；
6 K1 q8 _- i4 K1 [! l" V2010.7~2013.6，中国电子科技集团第29研究所（嘉纳海威科技有限公司），硅基射频集成电路设计工程师、硅基射频集成电路设计组组长；( e7 F6 C; ~# a: a9 i6 Z/ @, F: Z& i- ~
2011.1~2012.1，加拿大McGill大学，电子工程系，访问科学家；; X8 l% v, q, w. a
2005.9~2010.6，中国科学院微电子研究所（中国科学院大学），微电子学与固体电子学专业，博士；, _5 |5 w7 {7 \" _
2001.9~2005.6，首都师范大学，电子信息工程专业，学士；6 u. M1 {- o3 o; ~
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3）罗锋，2021年加入南开，国家高层次人才
6 L8 D7 P, k5 j9 x I课题组（模拟IC设计、微纳加工与超精密制造团队）的研究方向包括模拟IC设计（电源）、工艺与器件集成的可靠性以及失效分析；极紫外光刻的光刻胶合成与评估，镜面抛光，掩模制作与缺陷检测，基于同步辐射、自由电子激光等大科学装置（同步辐射装置的小型化、专业化集成）极紫外光刻（曝光/检测）；面向自旋电子学/量子传感的晶圆级器件的制造工艺、器件集成、微纳加工/超精密制造装备。$ C) m% J/ n6 q! _5 b
1）低功耗高端电源管理/车规级/宇航级超低静态电流高端智能电源管理；聚焦静电放电ESD的可靠性设计测试失效分析技术；* F" o' G- p6 |6 _
2）极紫外光刻技术光刻胶合成制造与刻蚀评估；化学/物理沉积制备5nm工艺节点以下极紫外光刻胶及其在存储/GAA逻辑工艺上的验证；极紫外光刻掩模设计与制造、极紫外光刻掩模检测；与同步辐射EUV相关的离子束镜面抛光工艺与装备；/ a2 q2 r% I G; r" o8 }) b2 a5 Z
3）超低功耗自旋/自旋电子学的新材料/器件；晶圆级微纳加工与制造新方法学/微纳混合制造工艺开发；基于磁电/磁光器件所特有的4D电镜和同步辐射光源的原位表征方法；基于同步辐射光源的sub-20nmXCT无损检测与缺陷检测；
2 s' i; K7 v8 T1 t1 o9 x4）8/12英寸纳米压印光刻关键的光刻胶材料、套刻压印工艺技术与专属化装备；6/8/12英寸离子束沉积/抛光/刻蚀关键工艺与专属化装备；. F( x: G2 \9 Z8 \# e2 A$ i
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4）肖知明，国家四青，在ADI有8年一线芯片设计和产品研发经验。前ADI主管，2019年加入南开
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5）王美玉，集成电路芯片封装，2021年加入南开# w. I0 u" A9 k' ?4 S+ u! N0 V
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6）王伟，国家高层次人才，2022年加入南开
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7）高鹏，2025年加入南开，具体简历未透露。
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