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发表于 2026-1-5 17:38:55
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突破二十年纪录:西电联合苏州能讯在IEDM发布超高功率密度GaN射频器件技术' P' O! ]3 H) w2 d* c
& G' b8 q, J, B! H近日,由西安电子科技大学郝跃院士、张进成教授、周弘教授的研究团队与苏州能讯合作,在氮化镓射频功率器件研究中取得重要突破。该项研究通过采用未掺杂的超宽带隙AlN缓冲层并优化其生长工艺,成功制备出具有原子级陡峭AlN/SiC界面的AlGaN/GaN/AlN-on-SiC HEMT,实现了低热阻和创纪录的功率输出密度。该成果以“Low Thermal Resistance X-band AlGaN/GaN/AlN-on-SiC RF Power HEMTs with Record Pout = 41 W/mm and fT×BV = 31 THz·V”为题,发表于全球微电子领域顶级学术会议——国际电子器件会议(IEDM)上。西电周弘教授为第一作者,西电张进成教授、张雅超教授、苏州能讯高能半导体有限公司裴轶博士以及香港大学张宇昊教授为共同通讯作者。合作单位包括航天博目、武汉大学和香港大学。此项研究一举突破了X波段GaN功率器件性能长达二十年的停滞局面,为下一代高功率、高效率射频系统提供了有效的技术路径。 |
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