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本帖最后由 四蚂蚁 于 2026-2-4 08:03 编辑 ( |: ^- b7 v+ G+ h% Q- D9 |3 y% `
+ H0 m2 X! x3 C9 V/ r 西电团队:采用微流道冷却技术攻克GaN HEMT热管理难题,实验验证结果远超理论预期,充分展现了微流道冷却的强大效能。
; H6 f. z" h! M. A. ?9 b 热特性测试表明,采用微流道冷却后,器件的Rj-a降幅高达65%。在功耗为6.3 W时,器件最高表面温度仅为122℃,较自然空冷下4.3 W功耗时的172℃实现了大幅降低。同时,器件的表面热通量密度提升106%,展现了卓越的热耗散能力。研究还证实,在高达50℃的高环境温度下,该冷却方案依然能保持高效的散热性能,Rj-a降幅仍接近58%,显示了其良好的环境适应性。9 x& j1 N# w/ _' d; ]& r
在电学性能方面,微流道冷却通过高效抑制沟道内的热量积累,从根本上缓解了自热效应。: \4 ?, |5 @2 E2 Z" S
本研究工作基于西电广州第三代半导体创新中心平台完成。 |
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